Hãy nhập câu hỏi của bạn vào đây, nếu là tài khoản VIP, bạn sẽ được ưu tiên trả lời.
![](https://rs.olm.vn/images/avt/0.png?1311)
Cho các phát biểu sau
(1) Dãy HF, HCl, HBr, HI: độ bền tăng dần, tính axit và tính khử tăng dần.
(2) HF là axit yếu nhưng có tính chất đặc biệt ăn mòn thủy tinh.
(3) Phản ứng: NaX (tt) + H2SO4 đặc
![](file:///C:/Users/ADMINI~1/AppData/Local/Temp/msohtmlclip1/01/clip_image002.png)
(4) Các muối AgX đều là chất kết tủa (X là halogen).
(5) Không thể bảo quản axit HF trong chai, lo bằng thủy tinh.
(6) Trong nhóm halogen, theo chiều tăng dần điện tích hạt nhân: tính phi kim (tính oxy hóa) giảm dần còn tính khử tăng dần.
(7) Trong phòng thí nghiệm, có thể điều chế clo bằng cách cho HCl đặc tác dụng với các chất oxi hóa mạnh như MnO2, KMnO4, KClO3, K2Cr2O7,…
(8) Trong công nghiệp, điều chế clo bằng cách điện phân dung dịch natri clorua NaCl bão hòa (không có màng ngăn) .
Số phát biểu đúng là A. 2. B. 3. C. 4. D.5
![](https://rs.olm.vn/images/avt/0.png?1311)
Đáp án A
(II).Sai. Nguyên tắc điều chế Cl2 là OXH ion Cl-
(III). Sai.Điều chế oxi người ta điện phân H2O việc cho thêm (NaOH,H2SO4) vào chỉ để làm mồi đồng thời tăng khả năng dẫn điện.
(IV). Sai.Là hai dạng thù hình của nhau.
(V). Sai.HF không có tính khử mạnh.
![](https://rs.olm.vn/images/avt/0.png?1311)
Chọn đáp án B
1. Đúng.
2. Sai.HF là axit rất yếu.Ăn mòn thủy tinh là tính chất riêng có.
3. Sai.Tính khử và tính axit tăng dần
4. Sai điều chế bằng điện phân dung dịch NaCl không có màng ngăn.
5. Sai HClO là axit rất yếu
![](https://rs.olm.vn/images/avt/0.png?1311)
a)
- F2 tác dụng với H2 ở nhiệt độ thấp, trong bóng tối
\(H_2+F_2\underrightarrow{-252^oC}2HF\)
- Cl2 tác dụng với H2 ở nhiệt độ thường, có ánh sáng
\(H_2+Cl_2\underrightarrow{as}2HCl\)
- Br2 tác dụng với H2 ở nhiệt độ cao
\(Br_2+H_2\underrightarrow{t^o}2HBr\)
- I2 tác dụng với H2 ở nhiệt độ cao, có xúc tác
\(I_2+H_2\xrightarrow[Pt]{350-500^oC}2HI\)
=> Tính oxh giảm dần từ F2 đến I2
b)
- HCl có tính khử: \(MnO_2+4HCl\rightarrow MnCl_2+Cl_2+2H_2O\)
- HCl có tính oxh: \(Fe+2HCl\rightarrow FeCl_2+H_2\)
c)
- \(SiO_2+4HF\rightarrow SiF_4+2H_2O\)
![](https://rs.olm.vn/images/avt/0.png?1311)
Một phần vì năng lượng liên kết HF rất lớn, một phần khác vì khi hòatan trong nước xảy ra quá trình Ion hóa tạo ra H3O+ và F- , sau đó F- tương tác với phân tử HF tạo ra ion phức HF2-
HF + H2O <=> H3O+ + F-
HF + F- => HF2-
Do một phần phân tử HF liên kết tạo ra HF2- nên hàm lượng tương đối của ion H3O+ không lớn, vì vậy dung dịch HF có tính axit yếu (K= 7.10-4).Các axit HX khác không có khả năng đó vì không có quá trình trên, năng lượng liên kết nhỏ hơn, bán kính của X lớn hơn. Chúng là các axit mạnh.
![](https://rs.olm.vn/images/avt/0.png?1311)
Chọn A
Các chất bị oxi hóa bởi axit sunfuric đặc, nóng là: KBr; S; P; FeO; Cu.
![](https://rs.olm.vn/images/avt/0.png?1311)
Đáp án C
Axit có đặc tính ăn mòn các đồ vật bằng thủy tinh là HF:
SiO 2 + 4 HF → SiF 4 + 2 H 2 O
![](https://rs.olm.vn/images/avt/0.png?1311)
a,\(Cl_2+2KBr\rightarrow2KCl+Br_2\)
\(Cl_2+2KI\rightarrow2KCl+I_2\)
b,\(Fe+2HCl\rightarrow FeCl_2+H_2\)
\(MnO_2+4HCl\rightarrow MnCl_2+Cl_2+H_2O\)
c,\(Br_2+2KI\rightarrow2KBr+I_2\)
\(Cl_2+2KBr_2\rightarrow2KCl+Br_2\)
d,\(Cl_2+2KI\rightarrow2KCl+I_2\)
\(Br_2+2KI\rightarrow2KBr+I_2\)
e,\(H_2+F_2\rightarrow2HF\)
\(H_2+Cl_2\underrightarrow{^{as}}2HCl\)
\(H_2+Br_2\underrightarrow{^{to}}2HBr\)
\(H_2+I_2\underrightarrow{^{to}}2HI\)
f,\(Cl_2+2NaOH\rightarrow NaCl+NaClO+H_2O\)
g,\(NaClO+CO_2+H_2O\rightarrow NaHCO_3+HClO\)
h,\(SiO_2+4HF\rightarrow SiF_4+2H_2O\)
HF là axit yếu nhưng hòa ta được oxit axit SiO2, còn các axit mạnh như H2SO4 HCl thậm chí là nước cường thuỷ.... lại không hòa tan đươc.Ví dụ:So sánh 2 phản ứng sau:
4HF + SiO2 ----> SiF4 + 2H2O (1)
4HCl + SiO2 ---> SiCl4 + 2H2O (2)
Năng lượng của phản ứng (1) là -920kJ (thấp), nhưng của phản ứng (2) là +54kJ.
Do đó phản ứng (1) xảy ra. ( phản ứng xảy ra theo chiều tạo năng lượng thấp)
Nguyên nhân chính của sự khác nhau này là do năng lượng liên kết Si-F (540 kJ/mol) trong SiF4 lớn hơn nhiều so với năng lượng liên kết Si-Cl (360 kJ/mol) trong SiCl4.